Intel Foundry mengumumkan keberhasilan pemasangan ASML TWINSCAN EXE:5200B, mesin litografi High‑NA EUV paling canggih di dunia saat ini, di fasilitas produksinya. Langkah ini menandai transisi industri pertama dari Low‑NA EUV ke High‑NA EUV, sekaligus menjadi fondasi utama pengembangan node 14A milik Intel.
Mesin TWINSCAN EXE:5200B merupakan generasi kedua High‑NA EUV dari ASML, melanjutkan EXE:5000 yang sebelumnya digunakan Intel untuk uji coba awal node 14A. Bersama ASML, Intel telah menyelesaikan proses acceptance testing untuk meningkatkan output wafer. Hasilnya signifikan: Intel sebelumnya melaporkan mampu memproses lebih dari 30.000 wafer dalam satu kuartal, dengan penyederhanaan proses manufaktur—jumlah langkah untuk satu lapisan tertentu dipangkas dari sekitar 40 menjadi kurang dari 10, sehingga waktu siklus produksi jauh lebih cepat.
Dari sisi performa, EXE:5200B mampu menghasilkan 175 wafer per jam dalam kondisi standar, dan Intel menargetkan optimasi hingga lebih dari 200 wafer per jam. Mesin ini juga meningkatkan presisi overlay, memungkinkan penyelarasan antar‑lapisan litografi hingga 0,7 nanometer, sebuah pencapaian penting untuk node manufaktur paling maju.
Pengalaman Intel dengan High‑NA EUV dimulai sejak 2023, saat perusahaan memasang alat High‑NA komersial pertama di fasilitas R&D Oregon. Saat ini, Intel telah mengirimkan 14A PDK 0.5 kepada pelanggan, yang dilaporkan sangat puas dengan perkembangan node tersebut. Intel sendiri menyebutkan bahwa pada tahap pengembangan ini, 14A menunjukkan yield dan performa yang lebih baik dibandingkan 18A pada fase yang sama.
Intel menargetkan produksi massal node 14A pada 2027. Meski antusiasme pelanggan tinggi, masih ada kekhawatiran terkait keamanan dan kapasitas wafer ketika bekerja dengan mitra foundry baru. Untuk menjawab tantangan tersebut, Intel perlu menambah jumlah mesin High‑NA EUV agar kapasitas produksi dapat ditingkatkan secara signifikan. Kapasitas 30.000 wafer per kuartal dinilai cukup untuk beberapa klien awal, namun belum memadai untuk skala foundry besar.
Sementara itu, node 18A yang masih menggunakan Low‑NA EUV akan tetap diproduksi berdampingan dengan 14A dalam berbagai varian, membantu Intel menyeimbangkan kebutuhan kapasitas dan permintaan pasar selama masa transisi teknologi.
Sumber: Intel
