lithography

DNP Capai Resolusi 10 nm pada Template Nanoimprint untuk Semikonduktor

Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) mengumumkan pencapaian penting dalam teknologi nanoimprint lithography (NIL) dengan berhasil mengembangkan template berlebar garis…

Baca selengkapnya

Jepang Tingkatkan Produksi Photoresist dan MOR untuk Litografi EUV 2 nm

Ketika node semikonduktor kelas 2 nanometer mulai memasuki fase produksi massal, sejumlah produsen bahan kimia asal Jepang memperluas kapasitas produksi…

Baca selengkapnya

ASML Tunjuk Marco Pieters sebagai Chief Technology Officer Baru

9 Oktober 2025 — Veldhoven, BelandaASML Holding NV (ASML) hari ini mengumumkan penunjukan Marco Pieters sebagai Executive Vice President dan…

Baca selengkapnya

ASML Jadwalkan Pengiriman 56 Low-NA dan 10 High-NA EUV Tools pada 2027

ASML diperkirakan akan meningkatkan kapasitas produksi mesin litografi Extreme Ultraviolet (EUV), baik Low-NA maupun High-NA, secara signifikan pada tahun 2027.…

Baca selengkapnya

ASML Laporkan Pendapatan €7,7 Miliar dan Laba Bersih €2,3 Miliar di Q2 2025

ASML, produsen mesin litografi terkemuka dunia, mencatatkan pendapatan sebesar €7,7 miliar dan laba bersih €2,3 miliar pada kuartal kedua 2025.…

Baca selengkapnya