ASML Jadwalkan Pengiriman 56 Low-NA dan 10 High-NA EUV Tools pada 2027
ASML diperkirakan akan meningkatkan kapasitas produksi mesin litografi Extreme Ultraviolet (EUV), baik Low-NA maupun High-NA, secara signifikan pada tahun 2027. Berdasarkan pesanan yang sudah masuk, perusahaan asal Belanda ini menargetkan pengiriman 56 unit Low-NA EUV dan 10 unit High-NA EUV kepada para klien besar industri semikonduktor.
Rincian Pengiriman Low-NA EUV
Dari total 56 unit Low-NA EUV yang dijadwalkan:
- Intel akan menerima 5 unit.
- Samsung mendapatkan 7 unit.
- SK Hynix menjadi penerima terbesar dengan 20 unit, seluruhnya ditujukan untuk produksi HBM (High-Bandwidth Memory) dan solusi penyimpanan canggih.
Menurut laporan media Korea Selatan, SK Hynix berencana memasang 20 unit Low-NA EUV dalam dua tahun mendatang, yang artinya sekitar 10 instalasi per tahun. Hal ini juga menunjukkan adanya rencana pembangunan fasilitas manufaktur baru dalam skala besar di Korea Selatan.
Rincian Pengiriman High-NA EUV
Untuk teknologi High-NA EUV yang berharga sekitar $380 juta per unit, ASML menargetkan pengiriman 10 unit pada 2027.
- Intel akan memperkuat lini produksinya untuk node 14A, menambahkan lebih banyak alat ke portofolio High-NA yang sudah ada.
- SK Hynix diperkirakan menggunakan 2 unit untuk operasi memori canggihnya.
Intel sebelumnya mengungkapkan bahwa penggunaan High-NA EUV telah memangkas jumlah langkah produksi untuk satu lapisan dari 40 menjadi kurang dari 10, memungkinkan siklus produksi jauh lebih cepat. Sementara itu, Samsung melaporkan pengurangan waktu produksi hingga 60% untuk aplikasi tertentu berkat penerapan EUV.
Persaingan Global Semakin Ketat
Meskipun Intel menjadi yang pertama mengadopsi High-NA EUV, Samsung dan SK Hynix kini bergerak cepat mengejar. Permintaan untuk Low-NA EUV juga tetap tinggi, menandakan bahwa kedua jenis mesin akan sama-sama menjadi tulang punggung produksi semikonduktor canggih di era AI dan memori generasi berikutnya.
Sumber: Jerry Cap on X, ComputerBase
